武汉研发出高性能“人造原子”光刻胶
发布时间:
2024-09-05 09:01
近日,光谷实验室、华中科技大学合作,研发成功高性能量子点光刻胶,实现了新型显示技术的全球领跑。
打光、点亮,在光谷实验室,研发人员正加紧量子点光刻胶的应用测试,其蓝光转换效率由行业的30%提升到近50%,光刻精度达到1微米,实现了显示屏的全彩显示和生产原料的国产化替代。湖北光谷实验室、华中科技大学集成电路学院副教授张建兵介绍,OLED、LCD这种显示技术,核心专利是被掌握在欧美日韩等国家的手里,很多技术就会卡脖子,或者交高昂的专利费。通过我们开发一些自有知识产权的显示技术,能打破我们现在现有的,在显示行业里面技术被动、受制于人的这种局面。
量子点,被称为人造原子,是一种半导体发光材料,广泛应用于显示面板产业。探索量子点发光的技术路径,分印刷和光刻两种。向难求成,过去三年,光谷实验室的研发团队选择了精度更好、发光效率更高、难度也更大的光刻胶技术进行突围。
湖北光谷实验室、华中科技大学集成电路学院副教授张建兵:“量子点与光刻胶的结合,属于一个新的产品形式。因为我们研究得比较早,所以我们选择光刻的技术方案,实现新型显示技术方面的主动权。”
技术突破,是破壳的第一步,把实验室里的“生果子”变成市场需要的“熟果子”,除了提升光刻精度,发光效率同样关键。基于光谷实验室平台,华中科技大学团队与国内最早做量子点的广纳珈源公司三方携手,设计、研制、验证,齐头并进,共同将量子点光刻胶发光效率提升至近50%。
目前,该项目团队正加快量子点光刻胶在显示屏中的应用,力争年内投用。